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IC 산업의 가장 복잡한 마스크의 선별을 가능하게 만드는 Teron 검사 시스템 및 Reticle Decision Center

KLA-Tencor Corporation은 10nm 이하의 마스크 기술에 적용할 수 있는 세 개의 앞선 레티클 검사 시스템인 Teron™ 640, Teron™ SL655 및 Reticle Decision Center (RDC)를 발표했다. 이 세 시스템은 모두 현재 및 차세대 마스크 설계를 가능하게 하는 핵심 장비로서 마스크 작업과 IC 제조의 노광 공정에서 중대하고 심각하게 수율 손상을 일으키는 불량을 더욱 효과적으로 식별할 수 있도록 해준다.

혁신적인 이중 촬영(Dual Imaging) 기술을 활용함으로써, Teron 640 검사 시스템은 마스크 작업에서 첨단 광학 마스크를 정밀하게 선별하는 데 필요한 감도를 제공한다. Teron SL655 검사 시스템은 투입되는 레티클 품질의 예비검사, 레티클 손상의 모니터링 및 수율에 심각한 영향을 주는 레티클 불량의 검출에서 IC 제조업체를 도울 새로운 STARlightGold™를 도입했다. Teron 검사기가 검출한 종합적인 레티클 품질 측정치는 자동 불량품 폐기 결정을 도출하고, 공정주기를 개선하며 수율에 영향을 주는 레티클 관련 패턴 오류를 줄여주도록 폭넓은 일련의 기능을 제공하는 데이터 분석 및 관리 시스템인 RDC에 의해 지원된다.

KLA-Tencor의 레티클 제품 부문(RAPID) 부사장겸 전반 관리자인 야린 시옹(Yalin Xiong) 박사는 “스페이서를 이용한 사중 패턴화(Spacer Assist Quadruple Patterning, SAQP)와 같은 오늘날의 복잡한 패턴화 기술은 고도로 복잡한 마스크를 이용하므로, 최적의 웨이퍼 패턴을 얻기 위해서는 레티클 상태의 선별 및 유지가 중요하다”며, “우리 팀은 현재 및 차세대 마스크 설계 모두에 적용될 수 있는 첨단 레티클 검사 및 데이터 분석 기술을 개발했다. Teron 640 및 Teron SL655가 생성한 풍부한 데이터세트를 RDC의 평가 기능과 결합함으로써, 마스크 작업실 및 IC 제조실은 노광술적으로 중요한 레티클 불량을 보다 효율적으로 식별할 수 있으며, 그로 인해 마스크 품질 관리를 개선하고 보다 나은 제품 패턴을 얻을 수 있다”고 설명했다