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유기EL 기술 개발 회사인 씨엘디는 자사가 출원한 ‘소자분리층 단일층 형성 기술’과 ‘유기EL 보호막 형성 기술’ 등이 최근 국내와 미국에서 각각 특허를 취득했다고 최근 밝혔다. 수동형 유기EL 패널 생산업체들은 유기EL 소자 분리를 위해 절연층과 격벽층으로 구성된 이중층 구조를 채용하고 있으나 씨엘디의 상변환 감광제를 이용한 소자분리층 단일층 형성기술을 채택할 경우 동시에 절연층과 격벽층을 형성할 수 있다. 씨엘디의 최도현 사장은 “이 기술을 적용할 경우 공정이 간단해져 제조 코스트가 낮아질 뿐만 아니라 개구율을 높여 해상도를 개선할 수 있게 된다.”고 설명했다. 이와 관련해 씨엘디는 이 특허 기술을 미국, 일본 등 주요국에 출원 중이며, 국내 특허를 최근 취득했다. 씨엘디는 이와 함께 80℃ 이하의 저온에서 짧은 시간 내에 질화실리콘 보호막을 형성한 후 레이저 가공을 통해 박막형 보호막을 만드는 ‘유기EL 보호막 형성 기술’도 개발, 미국 특허를 취득했다. 유기EL 업체들은 금속캔이나 유리를 보호막으로 사용해왔으나 80℃ 이하의 저온에서 보호막을 형성해야 하기 때문에 막 형성 시간이 매우 길고 보호막의 질이 낮아서 양산성은 물론 대형화하는 데 걸림돌로 작용해왔다. www.cldisplay.com