멘토 그래픽스, 첨단 추출 필요에 부응하는 신제품 Calibre xACT 발표
2015년 04월 22일
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반도체 설계 자동화(EDA) 기술 및 시장을 선도하는 한국 멘토그래픽스(www.mentorkr.com, 지사장 양영인)는 새로운 Calibre® xACT™ 기생 소자 추출 플랫폼을 발표했다. 이 플랫폼은 IC 개발자들이 추측에 기반한 설계나 불필요한 툴 설정 작업을 최소화 하도록 하여 14nm FinFET을 비롯한 광범위한 아날로그 및 디지털 기생 소자 추출 수요에 부응하고 있다. 또한, 고객의 공정, 애플리케이션, 설계 규모 및 추출 목적에 따라 자동적으로 추출 기법을 최적화 함으로써 정확성과 제품 개발 기간 간의 최상의 조합을 제공한다. 기생 소자 추출에 Calibre xACT 플랫폼을 사용한 고객들은 엄밀한 정확성 요건을 충족시키면서도 개발 속도는 무려 열 배나 향상되는 경험을 하기도 했다.

삼성은 14nm 공정을 위한 Calibre xACT 플랫폼의 개발 및 적격성 평가에서 멘토 그래픽스와 광범위하게 협력했고 기술 개발 시에도 이 플랫폼을 사용했는데, 이는 Calibre xACT 플랫폼이 제공하는 높은 정확성 때문이다. Calibre xACT 제품은 추출 전 과정을 단일 검증 룰로 진행 가능하기 때문에, 고객들은 자신들의 검증 룰이나 툴 구성을 수정하지 않고도 원하는 정확성과 짧은 제품 개발 기간을 실현할 수 있다.

“선도적인 추출 제품들을 신중하게 벤치마킹한 끝에 Calibre xACT를 우리의 모든 차세대 제품을 위한 기준 사인오프 추출 툴로 선택했다”고 Cypress Semiconductor사의 CAD 디렉터인 Dragomir Nikolic 씨는 말했다. “여기에는 90nm 및 65nm 공정의 제품들이 포함되어 있다. 우리는 Calibre xACT가 최첨단 미세 공정을 겨냥하는 추출 제품들 중에서도 높은 정확성과 짧은 제품 개발 기간 간의 최상의 조합을 갖추고 있음을 알았다. 또한 트랜지스터 수준부터 전체 칩 디지털 추출에 이르기까지 광범위한 응용 분야에 걸쳐 단일 추출 툴을 이용해 최적의 결과를 달성할 수 있는 능력도 커다란 가치가 있다고 보고 있다.”

회로 설계자들은 설계 사이클 내내 성능과 정확성이라는 두 요소를 놓고 씨름하지 않으면 안 된다. 기생 추출 문제도 다를 바 없다. 첨단 미세 공정들에 보다 복잡한 FinFET 디바이스가 사용됨에 따라, 설계 엔지니어들은 보다 엄밀한 정확성을 요구하는 한편으로 트랜지스터 수가 십억 개를 넘어가는 제품을 위한 보다 빠른 처리 속도와 용량도 필요로 하고 있다. 사실 오늘날의 IC에는 메모리와 아날로그, 스탠다드 셀 및 커스텀 디지털 콘텐츠가 혼재되어 있어 모든 공정들의 복잡성은 점점 더 증가하는 추세이다. 이러한 요건들을 충족시키기 위해 Calibre xACT 플랫폼은 콤팩트한 모델과 필드 솔버 그리고 효율적인 멀티 CPU 스케일링 기술의 조합을 이용함으로써 뛰어난 정확성은 물론 일정에 맞추기 위해 필요한 빠른 개발 속도도 보장해준다.

Calibre xACT 추출 플랫폼은 매끄러운 검증 플로우를 위해 Calibre 제품라인 전체에 통합되어 있는데, 여기에는 트랜지스터 수준 모델링을 위한 Calibre nmLVS™ 제품과 선별적으로 극도의 정확성을 필요로 하는 분야의 추출을 위한 Calibre xACT 3D 제품이 포함되어 있다. 이 플랫폼은 또한 기존의 설계 및 시뮬레이션 플로우와의 호환성을 보장하기 위해 제 3의 설계 환경 및 포맷과의 상호 호환성을 제공한다.

그래픽 / 영상
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