반도체 전문 온라인 매거진 - 올포칩

ACM 리서치(ACM Research, Inc.)는 프런트사이드/백사이드(Front- & Backside) 공정을 위한 3가지 Ultra C 습식 세정 장비 제품들을 소개했다. 이번에 발표된 장비들은 백사이드 세정용 Ultra C b, 자동 습식 세정 벤치 Ultra C wb 그리고 Ultra C s 스크러버(scrubber)로 ACM의 혁신적인 습식 공정 기술을 광범위한 애플리케이션으로 확대하게 되었다.

ACM 리서치의 데이비드 왕(David Wang) CEO는 “중국에 기반을 둔 고객들에게서 가장 중요한 공정 단계에 배치된 최첨단 ACM 장비들 이외에 추가적인 장비 공급에 대한 요청이 있었다. 이에 우리는 요구사항이 많지는 않지만 여전히 매우 중요한 생산 체인 단계에 고품질의 공정을 제공하기 위해서 이른바 ‘세미클렌징 라인설비’를 개발해 고객들의 요구에 대응해 왔다”며 “ACM은 이러한 고객의 니즈를 충족하기 위해 Ultra C 제품군을 개발하게 됐다. 한 곳(one-stop shop)에서 모든 것을 구매할 수 있도록 제품 포트폴리오를 확장시키고 고객들에게 더욱 경쟁력 있는 제품을 제공하게 되었다”고 밝혔다.  

3개의 새로운 Ultra C 장비는 첨단 IC, 전력 디바이스 및 첨단 WLP 시장을 목표로 한다. ACM은 이번 제품군을 통해 추가로 8억 달러의 시장 기회를 가질 수 있을 것으로 예상하고 있다. Ultra C b, Ultra C wb 장비는 중국내 첨단 반도체 공장들의 대량 생산에서 장비의 장점을 입증했다. 첫번째 Ultra C s 장비는 2020년 1분기에 중국내 고객에게 제공되었으며, 인증 및 승인에 따라 수익 인식이 기대된다.